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產(chǎn)品詳情
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導(dǎo)體(硅,單晶硅,多晶硅),半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導(dǎo)體(硅,單晶硅,多晶硅),半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR)
波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實(shí)時(shí)在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等;
藍(lán)寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波長范圍(200-1700nm):