產(chǎn)品概述

       大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。

測量范圍: 1 nm -800um

波長范圍: 200 nm -1700 nm

光斑直徑：200um-4um

適用于實(shí)時(shí)在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。

測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)

界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。

實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動(dòng)態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。

測量100nm二氧化硅薄膜，40um光斑直徑，波長范圍：200-1000nm：