三維光學輪廓儀/白光干涉儀

ContourX-1000

       布魯克Bruker ContourX-1000 落地式三維光學輪廓儀/白光干涉儀 （WLI） 可以輕松快速地完成高質(zhì)量的三維表面紋理和粗糙度測量。設(shè)備的計量系統(tǒng)融合了超過三十年的創(chuàng)新研發(fā)和布魯克的專有軟件和技術(shù)，具備更的性能、更高的效率和可重復(fù)性以及更便捷的測量流程。

       全新的一鍵式尋找表面(Advanced Find Surface ™)功能結(jié)合了自動聚焦和自動照明功能，無需每次測量前手動查找樣品表面，大幅提升了用戶體驗，縮短了測量時間。結(jié)合自適應(yīng)測量模式 USI和簡潔的引導式 VisionXpress™操作界面，ContourX-1000 幾乎能夠在任何表面，任何操作人員，甚至多用戶高負荷的生產(chǎn)設(shè)備下提供高質(zhì)量的精確測量。

產(chǎn)品特點：

·        可傾斜/俯仰光學頭、雙光源和的自動化功能，提供快速、靈活的生產(chǎn)車間內(nèi)測量。

·        自校準激光和集成的防震臺，確保更高的測量準確性和可靠性。

·        提供的測量和分析軟件帶有簡潔且有引導性的程序和模式，更大程度的方便用戶使用。

創(chuàng)新的硬件設(shè)計

ContourX-1000 三維輪廓儀集成有 Bruker 的傾斜/俯仰光學頭，的雙光源、自動化的物鏡轉(zhuǎn)盤和樣品臺，以及可選配的晶圓卡盤。這些創(chuàng)新可為幾乎所有的在研發(fā)和生產(chǎn)中的應(yīng)用提供快速且有效的解決方案，包括有難度的表面和深溝槽結(jié)構(gòu)。

ContourX-1000配備了專屬的內(nèi)部參考激光和防震臺以獲取更好的穩(wěn)定性和與其他工具的匹配能力。即使在嘈雜的環(huán)境中，該系統(tǒng)也能確保設(shè)備能完成精準的測量工作。

強大的自動測量分析功能

ContourX-1000具有易于操作的功能和的自動化生產(chǎn)界面，允許系統(tǒng)在更少的人工干預(yù)下快速收集高質(zhì)量的檢測結(jié)果報告，有效減少由于操作人員不同或操作設(shè)置不同而導致的數(shù)據(jù)采集和分析的結(jié)果偏差。

自動功能包括：

·         自動測量和分析方案

·         自動對焦和自動照明功能，一鍵式搜索表面

·         自適應(yīng)USI測量模式，自動確定合適的測量參數(shù)

·         提供引導的VisionXpress界面

·         自動模式對齊

·         自動強度調(diào)整，自動保存，自動拼接等

Vision64  - 儀器控制和分析軟件

ContourX-1000 由 Vision64® 軟件提供支持，該軟件是業(yè)界內(nèi)的一款功能強大、用戶友好的圖形用戶界面。這款功能齊全的軟件包括：

查找圖面：查找表面功能使任何用戶都能獲得高質(zhì)量的結(jié)果，無論操作員的經(jīng)驗水平如何，即使在多用戶環(huán)境中也是如此。它不僅可以實現(xiàn)自動對焦，還可以調(diào)整關(guān)鍵照明參數(shù)，如 LED 環(huán)形燈的強度。這允許設(shè)備能夠在各種材料表面上進行完整的計量，改善用戶體驗，易于操作，并縮短獲得結(jié)果的時間。

VisionXpress：VisionXpress™ 的界面使用簡單，適用于多用戶環(huán)境的標準測試庫，在功能齊全的Vision64 界面（用于設(shè)置和自動分析）以及用于自動化（更少的人工干預(yù)）的生產(chǎn)界面之間，您可以自由的選擇更適合需求的解決方案。

通用掃描干涉測量：USI模式的自適應(yīng)表面智能可自動調(diào)整算法參數(shù)，在同一視場內(nèi)的不同表面紋理上獲得更優(yōu)的結(jié)果，即使在對比度、強度和高度不同的表面上也是如此。這種自動檢測表面類型并提供精確計量的能力使其成為簡單且可靠的測量方法之一，適用于幾乎任何表面，從透明到不透明，垂直范圍高達 120 μm。

應(yīng)用案例

       ContourX-1000 將的硬件和軟件集成結(jié)合在一起，能夠?qū)Ω鞣N應(yīng)用和行業(yè)（包括關(guān)鍵尺寸計量等）的各種表面進行高精度、量具能力的定量 3D 表面表征。

1、改進如元件等的制造工藝

通過測量表面粗糙度參數(shù)，準確評估和衡量一些零部件的復(fù)雜表面紋理，幫助改進表面光潔度工藝。

2、新型材料的研究和大規(guī)模制造

為新型材料的研究和大規(guī)模制造提供快速、準確的平均表面粗糙度評估

3、半導體表面表征

用于半導體材料和器件納米級表面表征的高性能測量解決方案

4、更多應(yīng)用

·    高縱橫比MEMS器件結(jié)構(gòu)

·    工業(yè)高分子薄膜

·    高密度凸起互連

·    拼接測量得到的雙焦隱形眼鏡形貌