原子力顯微鏡Dimension Icon

性能優(yōu)異、具備智能成像模式 ( Scan Asyst) 和大樣品臺(tái)的原子力顯微鏡

Bruker Dimension®   Icon™  原子力顯微鏡為工業(yè)界和科研界納米領(lǐng)域的研究者帶來(lái)了全新的應(yīng)用體驗(yàn)，具有更高水平的性能，多種不同功能和配件選擇，測(cè)試功能強(qiáng)大，操作簡(jiǎn)便易行。

通過(guò)齊集Dimension系統(tǒng)數(shù)十年的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)、廣大客戶(hù)反饋、結(jié)合工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)備需求， Dimension Icon進(jìn)行了全面革新。全新的系統(tǒng)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了更高水準(zhǔn)的低漂移和低噪音水平?，F(xiàn)在，用戶(hù)只需要幾分鐘就可獲取真實(shí)準(zhǔn)確的掃描圖像。

優(yōu)異性能

·      獨(dú)特的傳感器設(shè)計(jì)，在閉環(huán)條件下，也能實(shí)現(xiàn)開(kāi)環(huán)噪聲級(jí)別的大樣品高分辨率掃描成像。

·      進(jìn)一步有效的降低了噪聲水平，接觸模式下可獲得原子級(jí)圖像，在輕敲模式下低于 30pm

·      熱漂移速率低千200pm/ 分鐘，獲得真正的無(wú)曲圖像 

快速、高效的檢測(cè)效率

·      XYZ閉環(huán)掃描器的新型設(shè)計(jì)，使儀器在較高掃描速度工作時(shí)，也會(huì)不降低圖像質(zhì)量，并有更好的數(shù)據(jù)采集效率。

·      參數(shù)預(yù)設(shè)置中融入了多年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，新的NanoS cope® 軟件帶有默認(rèn)的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｊ?。

·      高分辨率相機(jī)和X-Y定位可快速、高效地找到樣品測(cè)量位置

強(qiáng)大的多功能性

·      針尖和樣品之間具有開(kāi)放式空間，不僅可以進(jìn)行各種標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，也可以自行設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)方案，能夠滿(mǎn)足不同研究工作的需求

·      在硬件和軟件技術(shù)方面的不斷創(chuàng)新，新開(kāi)發(fā)的HarmoniX模式，可以測(cè)量納米尺度上材料性質(zhì)

·      用戶(hù)可通過(guò)使用程序腳本進(jìn)行半自動(dòng)測(cè)量和數(shù)據(jù)分析 

產(chǎn)品特色

高性能和高分辨率

Dimension®  Icon™是布魯克在針尖掃描技術(shù)上的一項(xiàng)革新技術(shù)，具有的分辨率，與Bruker的電子掃描算法相結(jié)合，顯著提升了測(cè)量速度與質(zhì)量。

系統(tǒng)配置溫度補(bǔ)償位置傳感器，實(shí)現(xiàn)了 Z 軸亞埃級(jí)和 XY 軸埃級(jí)的低噪音水平，將這個(gè)性能應(yīng)用在 90 微米掃描范圍、大樣品臺(tái)系統(tǒng)上，效果甚至超過(guò)大部分高分辨率原子力顯微鏡的開(kāi)環(huán)噪音水平。XYZ 閉環(huán)掃描頭的新設(shè)計(jì)使儀器在較高掃描速度工作時(shí)，圖像質(zhì)量也不會(huì)被損壞，實(shí)現(xiàn)了更大的數(shù)據(jù)采集輸出量。

配置了Bruker的PeakForce®技術(shù)，Dimension Icon可實(shí)現(xiàn)智能獲取高分辨圖像。

接觸模式獲得的云母原子圖像，掃描速度0.6Hz

表現(xiàn)

      Dimension  Icon原子力顯微鏡已成為研究領(lǐng)域飽受歡迎的原子力顯微鏡型號(hào)之一， 使用Dimension  Icon發(fā)表文章的數(shù)目比其他大樣品臺(tái)AFM更多。Dimension Icon 在原有的操作平臺(tái)上引入新技術(shù)，展現(xiàn)出更高的性能和更快的測(cè)量速度。其軟件直觀(guān)的工作流程，使其操作過(guò)程比以往的AFM 技術(shù)更加簡(jiǎn)便。

      現(xiàn)在，Dimension  Icon用戶(hù)無(wú)需像以前一樣調(diào)整幾小時(shí)的專(zhuān)業(yè)參數(shù)，即可立即獲得高質(zhì)量的測(cè)量結(jié)果。Dimension Icon 的每個(gè)方面，從開(kāi)放式針尖樣品空間，到軟件參數(shù)預(yù)設(shè)置，都經(jīng)過(guò)特殊設(shè)計(jì)以求達(dá)到無(wú)障礙操作和驚人的AFM 易用性。

Dimension Icon用戶(hù)操作界面

應(yīng)用廣泛，表現(xiàn)出眾

      Dimension Icon可高速捕捉多通道數(shù)據(jù)，獲得更多高質(zhì)量的測(cè)量結(jié)果。結(jié)合Bruker多項(xiàng)AFM方面的技術(shù)和模式以及模式增強(qiáng)功能，Icon能夠提供的儀器性能和出眾的測(cè)量表現(xiàn)，能夠幫助您在納米研究、材料研究等領(lǐng)域里更上一層樓。

·      材料成像

ICON支持Bruker的PeakForce ONM™成像模式，研究者在獲得高分辨率形貌圖像的同時(shí)，還可以對(duì)樣品進(jìn)行納米定量力學(xué)性能測(cè)試，同時(shí)獲得高分辨成像。此技術(shù)適用范圍很廣(模量從1MPa到50GPa，粘附力從10pN到10μN)，可以對(duì)不同類(lèi)型的樣品進(jìn)行表征。

·      電學(xué)表征

可以以更高的靈敏度和更大的動(dòng)態(tài)范圍實(shí)現(xiàn)電學(xué)表征。把這些研究與其他技術(shù)結(jié)合起來(lái)，比如Dark Lift，可在掃描電容顯微鏡，掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡，扭轉(zhuǎn)共振隧道電流原子力顯微鏡中獲得真正的無(wú)假象數(shù)據(jù)

·      納米操縱

可實(shí)現(xiàn)在納米和分子級(jí)別的納米操縱和刻蝕。Icon的 XYZ閉環(huán)掃描器可實(shí)現(xiàn)無(wú)壓電蠕變效應(yīng)和超低噪音的精密探針定位，適用于任何納米操縱系統(tǒng)。

·      加熱和冷卻

使用AFM不同模式掃描的同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)-35°C到 250°C的溫度控制和熱分析。使用熱探針可以在小于100nm的樣品局部加熱，達(dá)到400°C。 

靈活的AFM平臺(tái)

     Dimension Icon 展現(xiàn)出了的的性能，穩(wěn)定性和靈活性，幾乎可以實(shí)現(xiàn)以前只有在特制系統(tǒng)中才能完成的所有測(cè)量。利用開(kāi)放式平臺(tái)，大型或多元樣品支架和許多簡(jiǎn)單易用的性能，把AFM 的強(qiáng)大功能展現(xiàn)在科研領(lǐng)域和工業(yè)領(lǐng)域的研究者面前，為高質(zhì)量AFM成像和納米操作設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn)。

     Dimension Icon 提供對(duì)性能沒(méi)有任何影響的靈活性平臺(tái)， 一個(gè)平臺(tái)，無(wú)限可能：

·      開(kāi)放的平臺(tái)，能整合其他技術(shù)

·      開(kāi)放的軟件和硬件，能輕松定制您的研究應(yīng)用 - "如果它不存在， 就發(fā)明它"

·      電池、有機(jī)太陽(yáng)能等研究的完整解決方案

左圖：手套箱中的AFM-拉曼聯(lián)用。                      右圖：光導(dǎo)AFM配件。

用AFM拓展您的應(yīng)用

      憑借一整套出色的AFM成像模式，布魯克能為您每項(xiàng)研究提供適用的 AFM 技術(shù)。

      基于核心成像模式（接觸模式和輕敲模式），布魯克提供的全套 AFM測(cè)試模式，允許用戶(hù)探測(cè)樣品的電學(xué)、磁性等豐富性能。布魯克的全新的峰值力輕敲技術(shù)作為一種新的核心成像模式，已被應(yīng)用到多種測(cè)量模式中，能同時(shí)提供形貌、電學(xué)和力學(xué)性能數(shù)據(jù)。

Dimension Icon數(shù)據(jù)示例：

左：輕敲 (Tapping) 模式中的syndiotactic polypropylene閉環(huán)成像。掃描范圍: 5μm。

右：Syndiotactic polypropylene結(jié)晶動(dòng)力學(xué)研究: 本體聚合物從室溫(左)快速加熱至160℃的熔化狀態(tài)。128°C 時(shí)，促進(jìn)了等溫結(jié)晶的平衡，并形成比原始層狀晶體更大的晶體。右圖顯示 101 分鐘的部分結(jié)晶圖像。

左：空氣中DNA的輕敲模式閉環(huán)圖像。掃描范圍: 2μm，掃描速率: 4.88Hz

中：HOPG上C36H74 烷的AFM圖像。清晰可見(jiàn)的片層結(jié)構(gòu)間距，與擴(kuò)展C36H74 鏈構(gòu)象下的長(zhǎng)度間距 (±4.5nm)一致

右：使用TR-TUNA模式對(duì)金圖案化硅基底上分散的單壁碳形貌和導(dǎo)電性同時(shí)成像。掃描范圍: 1μm

左：壓電薄膜材料上Dimension lcon loge刻蝕圖案的壓電響應(yīng)力顯微鏡(PFM)振幅圖像。顯示Icon探針在刻蝕過(guò)程中的精確 XY 定位控制。掃描范圍: 20μm

中：HarmoniX 黏附力成像顯示毛細(xì)力相互作用

右：HOPG上C36H74 烷的閉環(huán)、高分辨率AFM 圖像。掃描范圍: 100nm